<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<!DOCTYPE ArticleSet PUBLIC "-//NLM//DTD PubMed 2.7//EN" "https://dtd.nlm.nih.gov/ncbi/pubmed/in/PubMed.dtd">
<ArticleSet>
<Article>
<Journal>
				<PublisherName>Payame Noor University, Iran</PublisherName>
				<JournalTitle>Iranian Journal of Analytical Chemistry</JournalTitle>
				<Issn>2383-2207</Issn>
				<Volume>10</Volume>
				<Issue>2</Issue>
				<PubDate PubStatus="epublish">
					<Year>2023</Year>
					<Month>09</Month>
					<Day>01</Day>
				</PubDate>
			</Journal>
<ArticleTitle>Thiourea as an Additive in Copper Electrorefining Process– a Review</ArticleTitle>
<VernacularTitle>تیواوره به عنوان یک افزودنی در فرآیند پالایش الکتریکی مس - یک مقاله مروری</VernacularTitle>
			<FirstPage>154</FirstPage>
			<LastPage>164</LastPage>
			<ELocationID EIdType="pii">10792</ELocationID>
			
<ELocationID EIdType="doi">10.30473/ijac.2024.70970.1291</ELocationID>
			
			<Language>EN</Language>
<AuthorList>
<Author>
					<FirstName>Alireza</FirstName>
					<LastName>Mohadesi</LastName>
<Affiliation>Department of Chemistry, Payame Noor University, 19395-3697 Tehran, Iran</Affiliation>

</Author>
<Author>
					<FirstName>Rasool</FirstName>
					<LastName>Roohparvar</LastName>
<Affiliation>Department of Chemistry, Shahid Bahonar University, Kerman, Iran</Affiliation>

</Author>
<Author>
					<FirstName>Nahid</FirstName>
					<LastName>Yaghoobi</LastName>
<Affiliation>Research &amp; Development Center, Shahrbabak Copper Complex, National Iranian Copper Industries Company, Kerman, Iran</Affiliation>

</Author>
</AuthorList>
				<PublicationType>Journal Article</PublicationType>
			<History>
				<PubDate PubStatus="received">
					<Year>2024</Year>
					<Month>04</Month>
					<Day>08</Day>
				</PubDate>
			</History>
		<Abstract>The use of additives is a standard method in both electrowinning and electrorefining of copper. They have multiple roles in the electrodeposition of copper. They are diffusion barriers and/or complexing agents for copper. In addition, they can perform other important roles as well. Thiourea has been extensively used as an additive in industrial copper electrorefining processes. The effect of thiourea on anode passivation, nodule formation in the cathode, and polarization of copper reduction has been investigated. In this study, we reviewed the most important studies conducted on the mechanism of thiourea effect in the copper electrorefining process, as well as the methods of determination and monitoring thiourea in real samples of copper refinery.</Abstract>
			<OtherAbstract Language="FA">استفاده از مواد افزودنی یک روش استاندارد در هر دو روش الکترووینینگ و پالایش الکتریکی مس است. آنها نقش چندگانه ای در رسوب الکتریکی مس دارند. آنها موانع انتشار و/یا عوامل کمپلکس کننده مس هستند. علاوه بر این، آنها می توانند نقش های مبهم دیگری را نیز انجام دهند.تیواورهبه طور گسترده ای به عنوان یک افزودنی در فرآیندهای پالایش الکتریکی مس استفاده می شود. اثرتیواورهبرپسیوشدنآند،تشکیلنودولدرکاتد و پلاریزاسیوناحیایمسبررسیشدهاست. در اینجا، مهم‌ترین مطالعات انجام‌شده در مورد مکانیسم اثرتیواوره در فرآیند پالایش الکتریکی مس و همچنین روش‌های اندازه‌گیری و پایشتیواورهدر نمونه‌های واقعی پالایشگاه مس بررسی شده است</OtherAbstract>
		<ObjectList>
			<Object Type="keyword">
			<Param Name="value">thiourea</Param>
			</Object>
			<Object Type="keyword">
			<Param Name="value">Electrorefining</Param>
			</Object>
			<Object Type="keyword">
			<Param Name="value">copper</Param>
			</Object>
			<Object Type="keyword">
			<Param Name="value">determination</Param>
			</Object>
		</ObjectList>
<ArchiveCopySource DocType="pdf">https://ijac.journals.pnu.ac.ir/article_10792_05eacf58dae91832c7c779ae2f9f4a25.pdf</ArchiveCopySource>
</Article>
</ArticleSet>
